Archivo:10nm metal layer pattern shift through focus.png
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10nm_metal_layer_pattern_shift_through_focus.png (669 × 245 píxeles; tamaño de archivo: 10 kB; tipo MIME: image/png)
Resumen
| Descripción | Through focus rms pattern shift for different horizontal (H) and vertical (V) patterns, including tip-to-side (T2S) at different slit positions. The anchor half-pitch is 24 nm. Ref.: T. H. Coskun et al., Proc. SPIE 9048, 90480W (2014). Note: The EUV tool NXE3300 has NA of 0.33 and conventional illumination sigma of 0.9 (https://www.asml.com/products/systems/twinscan-nxe/twinscan-nxe3300b/en/s46772?dfp_product_id=842). |
| Fecha | |
| Fuente | Graphic editor |
| Autor | Guiding light |
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| Fecha y hora | Dimensiones | Usuario | Comentario |
|---|---|---|---|
| 2017-07-09 18:30:46 | 669 × 245 | Guiding light | |
| 2017-07-09 17:45:36 | 669 × 245 | Guiding light | |
| 2017-07-09 13:26:36 | 669 × 245 | Guiding light | |
| 2017-07-07 05:04:01 | 966 × 596 | Guiding light | Uploading a self-made file using [[Wikipedia:File_Upload_Wizard|File Upload Wizard]] |
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| Fecha y hora | Miniatura | Dimensiones | Usuario | Comentario | |
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| actual | 03:19 13 may 2018 | | 669 × 245 (10 kB) | wikimediacommons>OgreBot | (BOT): Reverting to most recent version before archival |
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