Archivo:20 nm width stochastic failure probability.png

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20_nm_width_stochastic_failure_probability.png (480 × 288 píxeles; tamaño de archivo: 10 kB; tipo MIME: image/png)

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Resumen

Descripción
English: The probability of stochastic failure is plotted vs. pitch for 20 nm space widths at an EUV dose of ~30 mJ/cm2.[1] Points below 0.5 ppm are extrapolated. When the distance between exposed 20 nm spaces exceeds about 25-30 nm, the failure probability starts to increase. There is a contribution from secondary electron straggling in the ~20 nm range.[2]
Fecha
Fuente Excel
Autor Guiding light

Licencia

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2018-10-21 00:57:28 481 × 288 Guiding light
2018-10-20 16:14:10 481 × 288 Guiding light
2018-10-20 15:32:55 481 × 287 Guiding light
2018-10-20 13:36:11 481 × 288 Guiding light Uploading a self-made file using [[Wikipedia:File_Upload_Wizard|File Upload Wizard]]

References

  1. P. De Bisschop and E. Hendrickx, Proc. SPIE 10583, 105831K (2018).
  2. A. N. Broers, IEEE Trans. Elec. Dev. 28, 1268 (1981).

Leyendas

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